دانلود کتاب Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
| عنوان فارسی | رسوب شیمیایی بخار از سیلیکاتهای تنگستن و تنگستن برای کاربردهای VLSI / ULSI |
|---|---|
| عنوان اصلی | Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications |
| ناشر | William Andrew |
| نویسنده | John E.J. Schmitz |
| ISBN | 0815512880, 9780815516408 |
| سال نشر | 1993 |
| زبان | English |
| تعداد صفحات | 253 |
| دسته | علم شیمی |
| فرمت کتاب | pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها |
| حجم فایل | 12 مگابایت |
* نکته : همۀ کتاب های موجود در وبسایت زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه فارسی موجود نمی باشد.
توضیحات
فهرست مطالب
اطلاعات قبل از خربد
نحوه دریافت کتاب
این کتاب نسخه زبان اصلی است و ترجمه فارسی نیست.بعد از تکمیل فرایند خرید می توانید کتاب را دانلود نمایید. درصورت نیاز به تغییر فرمت کتاب به پشتیبان اطلاع دهید.کتاب های مرتبط